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发表于 2019-4-25 13:37:58
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本帖最后由 夏国特 于 2019-4-25 13:40 编辑
三极管发射结正偏,发射区高浓度多子注入基区成为非平衡少子;由于基区参杂低,基区来不及复合这些少子,同时又因为基区很薄,集电结面积大,这些非平衡少子大部分都在集电结电场力的作用下渡越到集电区,形成集电极电流。正常放大状态下,电荷流经基区并被复合掉一部分,形成基极电流。基极电流和集电极电流成比例,这就是共射电流放大系数β。
从放大条件来看,那就是发射结正偏,集电结反偏。
当这个条件不满足,比如发射结零偏,发射区就无法向基区注入多子,也就截止了;
集电结不满足反偏,那么加速电场力就会被外部电势抵消,从而基区少子不能顺利渡越,放大作用减弱。此时由于基区少子不能渡越,所以就会被“塞满”,这就是饱和一词的来源!
一种特殊的情况是集电结零偏的情况,集电结势垒电场没有被外部电场削弱,放大作用依旧,但由于没有外电势的加速,所以处在临界状态,就是临界饱和线,兼有放大特性和饱和特性;
除此之外,三极管还有击穿区和过载区,欲知详情请参《考晶体管原理》或《半导体物理与器件》。
外部特性与工作状态有关,而不是根据外部特性来界定工作状态的!
不知道楼主读的是那本书,不根据放大机理来对三极管工作状态来分区是不对的,这个逻辑应该是先分区后特性,希望要把顺序搞对。
以上,只是说明“饱和”一词的来源,恐有不准,欢迎拍砖! |
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